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工業(yè)高純水設(shè)備產(chǎn)品性能優(yōu)勢有哪些

  工業(yè)高純水設(shè)備產(chǎn)品性能優(yōu)勢有哪些,小編李德馨了解到廣大用戶朋友們非常關(guān)心這個問題,所以查閱了相關(guān)資料,咨詢了單位相關(guān)技術(shù)人員,整理總結(jié)了一下,為您詳細(xì)分析介紹一下。

  工業(yè)高純水設(shè)備產(chǎn)品性能優(yōu)勢有哪些:

  工業(yè)高純水設(shè)備可以將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。電阻率約10~18.3MΩ.cm極限值。超純水,是一般純水設(shè)備很難達(dá)到的程度,通常采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、高純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換(拋光)、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達(dá)18.25MΩ.cm。

  工業(yè)高純水設(shè)備用途:超純水水質(zhì)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。  

工業(yè)高純水設(shè)備

  工業(yè)高純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

  比較近幾年電去離子在各個工業(yè)領(lǐng)域都越來越受重視,許多工業(yè)系統(tǒng)開始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù),如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。

  (1)電力工業(yè)

  據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費(fèi)用約占電力成本的10%,而用電去離子替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。

  (2)制藥工業(yè)

  雖然藥用水的特點(diǎn)是并不要求很高的去離子程度,但電去離子系統(tǒng)具有同時去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn),因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱該類系統(tǒng)性能穩(wěn)定,全流程計算機(jī)連續(xù)監(jiān)控,全自動操作無人值守。

  (3)電子工業(yè)

  電子工業(yè)對水質(zhì)的要求極高,水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ,而EDI出水一般在15-17MΩ左右,因此在電子級水的生產(chǎn)過程多采用EDI+拋光樹脂系統(tǒng),即在EDI之后加離子交換,此工程雖然仍需離子交換,但由于EDI已除去了大部分離子,拋光樹脂幾乎不用再生,因此水處理費(fèi)用仍然很低。

  (4)電鍍與金屬表面處理

  電去離子可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。

  (5)其他領(lǐng)域

  電去離子在食品工業(yè)、化學(xué)工業(yè)等都有很廣泛的應(yīng)用:多室流化床、設(shè)備的橫截面一般為矩形,用垂直擋板將設(shè)備沿長度方向分成多室(一般4~8室)。擋板下沿與分布板面之間留有幾十毫米的間隙,作為室間粉粒通道。比較后一室有控制床面的堰板。流體平行進(jìn)入各室,顆粒則依次通過各室,因此多室流化床不僅能抑制顆粒在整個床層內(nèi)的返混,而且還能調(diào)節(jié)通入各室流體的流速和溫度。多室流化床比多層流化床設(shè)備容易控制,總壓降也小;但傳熱、傳質(zhì)推動力較多層床小,用于干燥時空氣熱量利用效率較差。 兩器流化床 有兩個流化床,在左側(cè)流化。

  工業(yè)高純水設(shè)備工藝流程

  1、采用離子交換方式,其流程如下:

  原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)

  2、采用兩級反滲透方式,其流程如下:

  原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)

  3、采用EDI方式,其流程如下:

  原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)

  工業(yè)高純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

  出水水質(zhì)完全符合我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

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(責(zé)任編輯:李德馨)
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