當水經(jīng)過反滲透純水設(shè)備的混床內(nèi)的陰陽樹脂時，可以進一步的進行脫鹽操作，將水中所殘存的離子去除，出水電導率在0.2μs/㎝以下，其中二氧化硅的含量將小于0.01㎎/L。混床的運行周期很長，因此一般都會設(shè)置為手動再生形式，再生廢水也比較少。目前還可以采用EDI技術(shù)來實現(xiàn)精除鹽的過程，使用這種技術(shù)將完全不會產(chǎn)生廢水，因此具有非常好的市場前景，但是在前提的投入比較大，所以使用并不廣泛。
利用反滲透設(shè)備進行精除鹽的處理是一個物理過程，因此要比離子交換的方式更加的環(huán)保，而且其處理過程是十分簡單，易操作的，自動程度化比較高，人工干預量小。同時，其系統(tǒng)的管理與維護也是非常簡單的。
反滲透純水設(shè)備的主機是一級除鹽的心臟部分，主要包括滲透膜、膜殼以及輔助閥門和儀器等組成成分。反滲透膜發(fā)展至今已經(jīng)成為了超低壓、低污染的復合膜，單根膜的脫鹽率可以達到99.5%，在反滲透設(shè)備的運行期間，可以設(shè)置剪斷自動快沖沖洗方式。當RO裝置停止運行時，可以使用產(chǎn)品水進行自動沖洗，將膜與不銹鋼管道中的高TDS殘水排除，使停止運行的膜可以完全的浸泡在淡水中，這樣做可以有效的防止膜由于自然滲透而造成損傷，在去除了污垢之后，可以使反滲透純水設(shè)備得到有效的保養(yǎng)。經(jīng)過反滲透設(shè)備的處理之后，在原水中的絕大部分無機鹽有機物、微生物、細菌等都會被截留。通過
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在長期的運行過程中，反滲透純水設(shè)備上的膜面上總是會積累各種污染物，從而導致裝置的性能、產(chǎn)水量、脫鹽率等下降，使得組件的進出口壓差升高，因此，除了需要日常的啟停裝置前的低壓沖洗外，還需要定期進行化學清洗。
